兩種排氣閥工作在雙通道狀態，分別在高速位置為80mm，160mm和240mm，高速速度0.5-3 m/s的條件下作空壓射動作時，型腔中心的壓力傳感器測得的型腔背壓峰值數據。可以看出，采用高真空排氣閥后的型腔背壓在較低的速度參數下較薄片通道排氣閥有顯著的下降。隨著高速速度的增大，兩種閥的背壓差別減小。

 

兩排氣閥在單通道狀態下的相應數據，也顯示出類似的規律。并且，隨著高速行程的縮短，氣體流動受到的干擾增大，結果的不規律性增加。但總體上，在實際壓鑄生產較多應用的工藝條件范圈，采用高真空排氣閥可以有效地降低常規壓鑄中的型腔背壓，從而降低鑄件中的氣體含量，提高壓鑄件質量。

 

2、兩種排氣閥真空性能對比

兩種排氣閥分別在模具狀態不同情況下，沖頭靜止于不同位置時的型腔真空度數據。可以看出，在各個狀態下的HVV閥都顯示出更高的真空性能。同時，沖頭的靜止位置距離初始位置越遠，型腔的真空度就越低。這是因為空壓射情況下壓室中沒有金屬液，沖頭與壓室壁的間隙難以得到密封，存在漏氣現象。沖頭靜止后到型腔的距離越近，這種漏氣對型腔真空度的影響也就越大。